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當(dāng)前位置：琢銳匠儀科學(xué)儀器（上海）有限公司>>產(chǎn)品展示>>真空氣氛管式爐CVD系統(tǒng)
1600℃真空氣氛管式爐CVD系統(tǒng)（CVD-TF）
【產(chǎn)品特點(diǎn)】產(chǎn)品特點(diǎn) 提供具有真空、可控氣氛及高溫的實(shí)驗(yàn)環(huán)境，應(yīng)用在半導(dǎo)體、納米技術(shù)、等纖維等領(lǐng)域 此款CVD生長系統(tǒng)適用于CVD工藝，如碳化硅鍍膜、陶瓷基片導(dǎo)...
氣體流量控制系統(tǒng)（ZLXT、ZKXT、FZXT）
【產(chǎn)品特點(diǎn)】產(chǎn)品特點(diǎn) 設(shè)備為用戶提供具有可控氣氛的實(shí)驗(yàn)環(huán)境 配合真空氣氛管式爐一起使用，供企業(yè)實(shí)驗(yàn)室、大專院校、科研院所等單位選用。 產(chǎn)品用途 該系列產(chǎn)品配合真...
1400℃真空氣氛管式爐CVD系統(tǒng)（CVD-TF）
【產(chǎn)品特點(diǎn)】產(chǎn)品特點(diǎn) 提供具有真空、可控氣氛及高溫的實(shí)驗(yàn)環(huán)境 此款CVD生長系統(tǒng)適用于CVD工藝，如碳化硅鍍膜、陶瓷基片導(dǎo)電率測試、ZnO納米結(jié)構(gòu)的可控生長、陶...
1200℃開啟式真空氣氛管式爐CVD系統(tǒng)（CVD-TF）
【產(chǎn)品特點(diǎn)】產(chǎn)品特點(diǎn) 提供具有真空、可控氣氛及高溫的實(shí)驗(yàn)環(huán)境，應(yīng)用在半導(dǎo)體、納米技術(shù)、 碳纖維等領(lǐng)域 使用溫度范圍 300～1200℃ 溫度控制精度 1℃ 管徑...
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